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真空冲洗装置是半导体制造、精密光学、医疗器械及高洁净实验室中用于高效清除微粒、有机残留与金属离子污染物的关键设备,通过负压抽吸与高压喷淋协同作用,在密闭环境中实现对晶圆、玻璃基板、腔体零件等的无接触、无二次污染清洗。真空冲洗装置性能依赖于多模块的精密集成,每一部件均体现强效去污、洁净保障、智能控制、安全可靠的现代清洗理念。一、真空系统高性能干式螺杆泵或涡旋泵:提供稳定真空度(通常–80至–95kP...
2015-08-11
2015-07-24
2015-07-14
2015-05-19
2015-04-27
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2014-09-12
2014-08-13
2014-04-30
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